Transparent Conducting Films Based on Indium Oxide for Photoconducting Devices
基于光电器件用氧化铟基透明导电薄膜
氧化铟锡(或掺锡氧化铟,简称ITO)薄膜作为典型的透明导电氧化物(简称TCO)材料广泛应用于平面显示、太阳 能和有机发光器件等领域。ITO薄膜的性能主要依赖于其氧化状态和掺杂元素的特性,对于能带结构的研究表明可以 通过掺杂而提高其导电性和拓宽其光学禁带。目前ITO薄膜的主要应用领域一般是作为单一的电学涂层或光学涂层, 即利用其金属导电性和光学透明性,但其导电性和透明性仍需进一步提高,同时ITO薄膜的化学和热不稳定性以及低 表面能限制了ITO薄膜的进一步应用,应该开发出高质量的TCO薄膜,以开拓更广的应用领域,而提高ITO薄膜的综合 性能是当前研究的一个重要方向。在我国曾出版过不少关于这方面的书,但好多内容陈旧,新近的文章和书籍虽然不 少,但都比较分散和各有侧重点,一些新颖的观点尚未反映在书中,一本内容新颖并具有理论和工程实践意义的专著, 是作者多年的梦想。
Components of the Book:
  • FRONT MATTER
    • 目 录
    • 前 言
    • 编者简介
  • Chapter 1 Transparent Conductive Oxide Thin Film and Indium Tin Oxide Film
    第一章 透明导电氧化物薄膜与氧化铟锡薄膜
    • 1.1. 透明导电氧化物薄膜
    • 1.2. 透明导电氧化物薄膜的研究现状
    • 1.3. 氧化铟锡靶材
    • 1.4. 氧化铟锡导电玻璃
    • 1.5. 氧化铟锡薄膜的结构与光电性质
    • 1.6. 氧化铟锡薄膜的主要制备方法
    • 1.7. 氧化铟锡薄膜重点应用领域
    • 1.8. 氧化铟锡薄膜的导电机理及能带理论
    • 1.9. 多层透明导电氧化物薄膜的研究现状
    • 1.10. 低温沉积氧化铟锡薄膜
    • 1.11. 氧化铟锡薄膜的研究展望
    • 1.12. 氧化铟锡薄膜应用及其有待解决的主要问题
    • 参考文献
  • Chpater 2 The Properties of a Total of Sputtering of Zirconium Doped Indium Tin Oxide Thin Film
    第二章 共溅射法制备锆掺杂氧化铟锡薄膜的特性
    • 2.1. 高价金属元素掺杂氧化铟锡薄膜
    • 2.2. 高价金属元素掺杂氧化铟锡薄膜的研究现状
    • 2.3. 掺杂氧化铟锡薄膜实验方法
    • 2.4. 薄膜厚度对氧化铟锡薄膜光电性能的影响
    • 2.5. 锆靶溅射功率对氧化铟锡薄膜光电性能的影响
    • 2.6. 衬底温度对氧化铟锡和锆掺杂薄膜微结构的影响
    • 2.7. 衬底温度对氧化铟锡和锆掺杂薄膜光电性能的影响
    • 2.8. 氧流量对氧化铟锡和锆掺杂薄膜微结构的影响
    • 2.9. 氧流量对氧化铟锡和锆掺杂薄膜光电性能的影响
    • 2.10. 不同退火时间下氧化铟锡和锆掺杂薄膜电阻的变化
    • 2.11. 退火温度对氧化铟锡和锆掺杂薄膜微结构的影响
    • 2.12. 退火温度对氧化铟锡和锆掺杂薄膜光电性能的影响
    • 2.13. 氧化铟锡靶材在磁控溅射过程中的毒化现象
    • 参考文献
  • Chapter 3 Indium Oxide and Its Doped Electronic Band Structure Calculation
    第三章 氧化铟及其掺杂的电子能带结构计算
    • 3.1. 第一性原理
    • 3.2. 密度泛函理论
    • 3.3. 第一性原理计算的理论模型
    • 3.4. 第一性原理计算的理论计算方法
    • 3.5. 氧化铟的电子结构与态密度
    • 3.6. 氧化铟锡中不同锡掺杂量的理论计算研究
    • 3.7. 锆掺杂氧化铟锡的电子结构与态密度
    • 参考文献
  • Chapter 4 The Properties of a Total of Sputtering of Tantalum Doped Indium Tin Oxide Thin Film
    第四章 共溅射法制备钽掺杂氧化铟锡薄膜的特性
    • 4.1. 钽掺杂氧化铟锡薄膜
    • 4.2. 共溅射法制备氧化钽掺杂氧化铟锡薄膜实验方法
    • 4.3. 不同制备过程钽掺杂氧化铟锡薄膜的微结构
    • 4.4. 钽掺杂氧化铟锡薄膜的电学性能
    • 4.5. 钽掺杂氧化铟锡薄膜的光学性能
    • 4.6. 钽掺杂和锆掺杂薄膜微结构及表面形貌
    • 4.7. 电学性能和不同价态差对薄膜电学性能的影响
    • 4.8. 钽掺杂和锆掺杂薄膜的光学性能
    • 4.9. 钽掺杂电子能带结构的第一性原理计算
    • 参考文献
  • Chapter 5 The Environmental Stability and Surface Energy Doped Indium Tin Oxide Film
    第五章 掺杂氧化铟锡薄膜的环境稳定性和表面能
    • 5.1. 氧化铟锡薄膜的环境适应性与表面性能
    • 5.2. 掺杂氧化铟锡薄膜在酸碱溶液和热环境中的性能实验
    • 5.3. 薄膜在酸碱溶液和热环境中电阻的变化
    • 5.4. 薄膜酸腐蚀前后的表面形貌
    • 5.5. 薄膜酸腐蚀前后的XPS
    • 5.6. 掺杂氧化铟锡薄膜在不同模拟环境中测试实验过程
    • 5.7. 薄膜在不同模拟环境中的电学稳定性
    • 5.8. 薄膜在不同模拟环境中的电化学测试
    • 5.9. 氧化铟锡表面处理方法
    • 5.10. 等离子体表面改性作用
    • 5.11. 掺杂氧化铟锡薄膜表面能的理论基础与实验过程
    • 5.12. 薄膜表面能的研究
    • 参考文献
Readership: 本书可作为材料科学与工程类或应用物理类专业高年级本科生和研究生的教材或参考书;也可供理工科相关交叉学科专业的教师和科技工作者参考。
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FRONT MATTER
Zhang Bo (张波)
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Chapter 1 Transparent Conductive Oxide Thin Film and Indium Tin Oxide Film
第一章 透明导电氧化物薄膜与氧化铟锡薄膜

Zhang Bo (张波)
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Chpater 2 The Properties of a Total of Sputtering of Zirconium Doped Indium Tin Oxide Thin Film
第二章 共溅射法制备锆掺杂氧化铟锡薄膜的特性

Zhang Bo (张波)
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Chapter 3 Indium Oxide and Its Doped Electronic Band Structure Calculation
第三章 氧化铟及其掺杂的电子能带结构计算

Zhang Bo (张波)
PDF (1567 KB)
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Chapter 4 The Properties of a Total of Sputtering of Tantalum Doped Indium Tin Oxide Thin Film
第四章 共溅射法制备钽掺杂氧化铟锡薄膜的特性

Zhang Bo (张波)
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Chapter 5 The Environmental Stability and Surface Energy Doped Indium Tin Oxide Film
第五章 掺杂氧化铟锡薄膜的环境稳定性和表面能

Zhang Bo (张波)
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Zhang Bo (Biography), 常州机电工程学院,工学博士

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